高纯 钒V 靶材
2022-11-09
  • 溅射靶材工艺流程:
    原料粉末 → 粉末冶炼 → 粉末混合 → 压制成型 → 气氛烧结 → 塑性加工 → 热处理→ 超声探伤 → 水切割 → 机械加工 → 金属化 → 绑定 → 超声测试 → 超声清洗 → 终检 → 包装出库

    成分质量控制
    原料成分分析:
    通过ICP、GDMS等设备检测分析,金属杂质含量,确保纯度达标;
    通过碳硫分析仪,氮氧分析仪等设备对非金属杂质含量进行检测。

    金相探伤分析:
    通过探伤设备检测产出靶材,确保产品内部无缺陷、缩孔;
    通过金相测试,检测靶材内部晶粒程度,确保晶粒细密。

    外观尺寸检测:
    通过千分尺、精密卡尺,测量产品尺寸,确保符合客户图纸要求;
    通过表面清洁度测量仪,测量产品表面光洁度和清洁度。

    包装及保存说明
    出库包装:内部真空袋真空包装,外部贴标(可根据需求包装),纸箱泡沫垫快递运输。
    储存方法:储存于干燥环境中,避免潮湿,密封包装,轻拿轻放,防压防撞。
    使用注意:使用前请带上防尘手套操作,观察靶材表面是否清洁,避免直接用手接触操作,及其他异物污染到靶材。

  • 元素介绍

    元素性质

    中文名

    膨胀系数

    (25℃)8.4μm·m-1·K-1

    元素符号

    V

    热导率

    30.7W·m-1·K-1

    CAS号

    7440-62-2

    电阻率

    (20℃)197nΩ·m

    物态

    固体

    杨氏模量

    128 GPa

    密度

    6.0g·cm3

    剪切模量

    47 GPa

    熔点

    1910℃

    体积模量

    160 GPa

    沸点

    3407℃

    莫氏硬度

    6.7

    熔化热

    21.5 kJ·mol-1

    布氏硬度

    750Mpa

    汽化热

    444 kJ·mol-1

    磁序

    顺磁性

    比热容

    24.89 J·mol-1·K-1

    晶体结构

    体心立方


适用设备及应用领域
适用设备:应用于PVD技术镀膜材料,各种单靶材系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备
应用领域:科学实验研究方面应用,纳米加工,器件制造等相关产品,广泛应用于平面显示、半导体、太阳能电池、光学元器件、节能玻璃等领域。

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