高纯 铬Cr
2022-11-09

溅射靶材工艺流程:
原料粉末 → 粉末冶炼 → 粉末混合 → 压制成型 → 气氛烧结 → 塑性加工 → 热处理→ 超声探伤 → 水切割 → 机械加工 → 金属化 → 绑定 → 超声测试 → 超声清洗 → 终检 → 包装出库

成分质量控制
原料成分分析:
通过ICP、GDMS等设备检测分析,金属杂质含量,确保纯度达标;
通过碳硫分析仪,氮氧分析仪等设备对非金属杂质含量进行检测。

金相探伤分析:
通过探伤设备检测产出靶材,确保产品内部无缺陷、缩孔;
通过金相测试,检测靶材内部晶粒程度,确保晶粒细密。

外观尺寸检测:
通过千分尺、精密卡尺,测量产品尺寸,确保符合客户图纸要求;
通过表面清洁度测量仪,测量产品表面光洁度和清洁度。

包装及保存说明
出库包装:内部真空袋真空包装,外部贴标(可根据需求包装),纸箱泡沫垫快递运输。
储存方法:储存于干燥环境中,避免潮湿,密封包装,轻拿轻放,防压防撞。
使用注意:使用前请带上防尘手套操作,观察靶材表面是否清洁,避免直接用手接触操作,及其他异物污染到靶材。

元素介绍元素性质
中文名膨胀系数(25℃)4.9μm·m-1·K-1
元素符号Cr热导率93.9W·m-1·K-1
CAS号7440-47-3电阻率(20℃)125nΩ·m
物态固体杨氏模量279 GPa
密度7.19g·cm3剪切模量115 GPa
熔点1907℃体积模量160 GPa
沸点2671℃莫氏硬度8.5
熔化热21.0 kJ·mol-1布氏硬度1120Mpa
汽化热339.5 kJ·mol-1磁序AFM
比热容23.35 J·mol-1·K-1晶体结构体心立方


适用设备及应用领域


适用设备:应用于PVD技术镀膜材料,各种单靶材系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备
应用领域:科学实验研究方面应用,纳米加工,器件制造等相关产品,广泛应用于平面显示、半导体、太阳能电池、光学元器件、节能玻璃等领域。


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