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溅射靶材工艺流程：
原料粉末 → 粉末冶炼 → 粉末混合 → 压制成型 → 气氛烧结 → 塑性加工 → 热处理→ 超声探伤 → 水切割 → 机械加工 → 金属化 → 绑定 → 超声测试 → 超声清洗 → 终检 → 包装出库

成分质量控制
原料成分分析：
通过ICP、GDMS等设备检测分析，金属杂质含量，确保纯度达标；
通过碳硫分析仪，氮氧分析仪等设备对非金属杂质含量进行检测。

金相探伤分析：
通过探伤设备检测产出靶材，确保产品内部无缺陷、缩孔；
通过金相测试，检测靶材内部晶粒程度，确保晶粒细密。

外观尺寸检测：
通过千分尺、精密卡尺，测量产品尺寸，确保符合客户图纸要求；
通过表面清洁度测量仪，测量产品表面光洁度和清洁度。

适用设备及应用领域

适用设备：应用于PVD技术镀膜材料，各种单靶材系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备
应用领域：科学实验研究方面应用，纳米加工，器件制造等相关产品，广泛应用于平面显示、半导体、太阳能电池、光学元器件、节能玻璃等领域